Le projet de puce de source de lumière UV profond d'UVLEDTEK sélectionné parmi les « 10 principales avancées chinoises de 2025 en matière de technologie de semi-conducteurs de troisième-génération »

Jan 26, 2026

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Le 12 novembre. 2025, le 11e Forum international sur les semi-conducteurs à large bande interdite et le 22e Forum international chinois sur l'éclairage à semi-conducteurs se sont tenus en grande pompe dans la ville de Xiamen. Au cours de l'événement, les « 10 principales avancées chinoises en matière de technologie des semi-conducteurs à large bande-Gap 2025 » ont été officiellement publiées. Parmi les réalisations sélectionnées figurait le projet intitulé « Recherche technologique clé sur l'amélioration de l'efficacité de la luminescence des puces à source de lumière ultraviolette profonde à base d'AlGaN-à base de-UV », réalisé conjointement par UVLEDTEK, l'Université des sciences et technologies de Huazhong (HUST) et l'Institut de recherche en technologie industrielle d'Ezhou de HUST.

 

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L'équipe de recherche commune d'UVLEDTEK a réussi à fabriquer des nanostructures diélectriques à l'échelle d'une tranche en concevant de manière innovante une structure de réseau réfléchissant gravé pour les puces et en lançant une stratégie de régulation coordonnée des photons de diffusion. Ces avancées technologiques clés ont permis de surmonter le défi mondial consistant à atteindre une puissance de sortie de niveau milliwatt-dans des sources de lumière LED ultraviolettes lointaines-fonctionnant sur la bande de 230 nm. En fin de compte, l'équipe a développé une source LED ultraviolette profonde -à base d'AlGaN-avec une longueur d'onde maximale de 230 nm et une puissance de sortie de 2,8 mW, ce qui représente la longueur d'onde la plus courte signalée à ce jour pour les LED ultraviolettes profondes-de niveau milliwatt-, repoussant les limites de performances des sources lumineuses LED ultraviolettes profondes-à une nouvelle frontière.

 

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Grâce à sa longueur d'onde extrêmement courte et à sa haute énergie, la lumière ultraviolette -de profondeur de 230 nm peut détruire efficacement l'ADN/ARN microbien, permettant ainsi une stérilisation très efficace. Ce qui est encore plus révolutionnaire, c'est qu'elle résout le défi principal de la « coexistence homme-machine » dans la désinfection traditionnelle aux ultraviolets profonds-par rapport aux longueurs d'onde UVC conventionnelles. Cette bande a une pénétration plus faible dans les tissus humains tels que la peau et les yeux, avec des dommages potentiels considérablement réduits. Cette caractéristique permet d'effectuer une désinfection continue-en temps réel dans des espaces occupés tels que les hôpitaux, les écoles, les transports publics et les bureaux sans nécessiter d'évacuation, élargissant considérablement les limites d'application de la désinfection ultraviolette. De plus, la lumière ultraviolette -de profondeur de 230 nm démontre une sensibilité élevée dans la détection de substances spécifiques, ce qui lui confère de larges perspectives d'application dans des scénarios exigeant une haute précision et une assurance de sécurité à faible dose-, tels que la détection de gaz, l'analyse de la qualité de l'eau et l'inspection précise des instruments.

 

Cette sélection parmi les « 10 principales avancées chinoises en 2025 dans la technologie des semi-conducteurs à large bande-Gap » est une reconnaissance faisant autorité de la part de l'industrie d'UVLEDTEK et de ses partenaires en termes de capacité d'innovation et de force de R&D dans les technologies de base des semi-conducteurs. À l'avenir, UVLEDTEK continuera d'augmenter ses investissements en R&D, d'approfondir sa collaboration étroite avec les partenaires de recherche de l'industrie-universitaires-et de rester déterminé à stimuler l'innovation continue et le développement industriel dans les technologies de semi-conducteurs de troisième-génération (en particulier dans le domaine de l'optoélectronique à semi-conducteurs à large bande{{7}), contribuant à améliorer la compétitivité mondiale de la Chine dans ce domaine et à conduire l'industrie à atteindre continuellement de nouveaux sommets technologiques.

 

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